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真空熱處理淬煉爐系統(tǒng)

產(chǎn)品分類: 特殊環(huán)境類試驗箱

真空熱處理快淬爐屬于高壓氣猝爐,是一種電阻加熱氣冷爐,采用真空輻射方式加熱,氣體快速冷卻,氣體冷卻壓力可調(diào)且最高壓力大于 6bar(絕壓)的熱處理設(shè)備。

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產(chǎn)品詳情

 一、產(chǎn)品功能和用途:

       型號:WS-RZK-800

 真空熱處理淬煉爐系統(tǒng)屬于高壓氣猝爐,是一種電阻加熱氣冷爐,采用真空輻射方式加熱,氣體快速冷卻,氣體冷卻壓力可調(diào)且最高壓力大于 6bar(絕壓)的熱處理設(shè)備,該設(shè)備可用于淬火、退火、回火、固溶、時效等真空熱處理工藝。真空熱處理快率爐由真空室、抽真空真系統(tǒng)、壓力測量裝置、加熱風(fēng)、保溫隔熱屏、高壓氣淬系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)及試驗臺架組成

 1、 為熱處理作業(yè)提供高真空環(huán)境,滿足高真空熱處理的真空度需求,真空腔室為不銹鋼爐膛,配備干泵、分子泵組成的真空泵組,禁止使用油泵。

 2、為熱處理作業(yè)提供高溫烘烤環(huán)境,滿足高真熱處理的溫度需求,配備多層金屬熱屏蔽,帶狀加熱絲。

 3、 設(shè)備可通過程序自動升溫,可控制升溫速率、可設(shè)置分段加熱,并具備通過真空度檢測反饋控制加熱升溫的功能。

 4、配備冷卻水機,對真空法蘭、爐膛外壁進行冷卻。

 5、配備可拆換樣品托盤,材質(zhì)為鉬或陶瓷。

 6、具備小型化特點,占地面積小,搬運靈活。

 7、配備充氣口可充入保護氣體

 8、干泵配備減震裝置,降低運行的振動


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      二:真空熱處理淬煉爐系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)

 真空

 1、工作真空度:5.0×10-2Pa(熱態(tài)),冷態(tài)極限真出≤1.0×10-2Pa.在冷態(tài)、空載狀態(tài)下系統(tǒng)從大氣開始抽氣,30分鐘可達到2 Pa.60分鐘可達到 5.0×10-1Pa, 壓升率不大于 1Pa/h

 2、最高工作溫度: 1200℃,保量過程中溫度波動小于±2℃。

 3、 室溫極限真空度:2.0×10-4Pa(室溫)

 4、抽速:從大氣30分達到0.1Pa,60分達到5.0×10-4Pa。

 5、容量:可以容納不小于50Kg樣品重量。

 6、壓力測量范圍:1.0×10-5Pa至3.0×105Pa。

 2.2.2:加熱

 1、最高加熱溫度:1200℃

 2、 最高升溫速率: 15℃/min

 3、 最低升溫速率: 0.1℃/min

 4、最高升溫程序段數(shù)量: 20

 5、控溫精度:±2℃

 6、溫度過沖:<10℃

 7、外壁溫度<50℃(開水機時)

 8、空爐、密閉狀態(tài)下,從1100℃冷卻至 200℃用時不超過5 min:

 9、具備冷卻水溫、水壓報警功能

 其它要求

 1、 外型尺寸:整體設(shè)備小于2.5*1.5*1.8米,設(shè)備可設(shè)計成可拆分結(jié)構(gòu)以滿足此要求

 2、有效實用尺寸:300mm×300mm×400mm

 3、放氣閥:1×KF16

 4、噪聲:滿足工業(yè)場所噪聲標(biāo)準(zhǔn)

 結(jié)構(gòu)與安裝要求

 真空熱處理設(shè)備獨立放置,應(yīng)有清晰的標(biāo)識,便于指導(dǎo)人工連接。

 接口要求

 采用標(biāo)準(zhǔn)真空密封法蘭。

 產(chǎn)品涂覆、標(biāo)識要求

 應(yīng)在該設(shè)備外醒目位置上安裝銘牌,銘牌中有產(chǎn)品名稱、型號、出廠編號、出廠日期和承制單位等內(nèi)容。

 本臺真空熱處理設(shè)備主要分為真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、電控及冷卻系統(tǒng)四部分組。

 本設(shè)備為高真空鉬膽加熱距式前開門設(shè)備,真空容器主要由優(yōu)質(zhì)S30408不銹鋼制造,為了防止高溫對人體燙傷所以容器做成了兩層,中間一層用來通水冷卻。所有抽氣設(shè)備裝在儀器內(nèi),真空及加熱系統(tǒng)在控制柜上面的平板電腦上操作,本系統(tǒng)將真空加熱合為一體,提高了系統(tǒng)的集成性與穩(wěn)定性,操作使用簡單方便,同時系統(tǒng)還具有一定的擴展性和冗余性便于后續(xù)功能擴展的是真空度和溫度設(shè)備控制的核心。

 將被試驗件放入真空腔內(nèi),再將真空腔爐門關(guān)上(加熱為內(nèi)鉬膽加熱式),就可開始工作。將真空抽至工藝規(guī)定的指標(biāo)后,可加熱,并開啟高真空內(nèi)的加熱系統(tǒng),可使器件內(nèi)管壁氣體分子及高真空管道內(nèi)壁上氣體分子脫附,并通過真空系統(tǒng)將其抽走。經(jīng)過一定時間后,使器件內(nèi)真空度達到工藝所需的真空度要求,就可進行陰極分解或器件的熱處理工藝,完成真空工藝流程。

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